Tecnologias Asistidas Por Plasma

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DESCRIPCIÓN

Depósito asistido por plasma (PECVD) El depósito de capas mediante PECVD permite obtener películas delgadas de una gran variedad de materiales que se depositan sobre un substrato. Para realizar el proceso de PECVD, se suministra energía eléctrica a una mezcla de gases en condiciones de bajo vacío para generar el plasma.

Los autores Gil Negrete Tagle Múgica y Oñate conjuganuna formación y conocimiento técnico del plasma y sus procesos así como una gran experiencia profesional en las aplicaciones y desarrollo de estas tecnologías. "Tecnologías asistidas por plasma" son una oportunidad para la mejora y competitividad del tejido industrial.

INFORMACIÓN

TAMAÑO DEL ARCHIVO 5,91 MB
AUTOR(A) Andres Gil Negrete
FECHA 1997
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la nitruración iónica asistida por plasma de arco eléctrico. Para ello, se ha empleado y adaptado un equipo industrial de Deposición Física en fase Vapor (PVD) para llevar a cabo estos procesos termoquímicos. Como fruto de este trabajo, que se ha realizado ...